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连续沉淀 |
或称
连续脱溶,是指单相脱溶过程在母相中各处同时进行,这通常是在过饱和程度比较低的情况下发生,或者在沉淀相与母相错配度比较大的合金中出现。脱溶分解时母相成分连续地由过饱和状态向饱和状态转变,母相的晶粒外形和取向均不改变的一种脱溶分解。
连续脱溶又可分为二类:①均匀脱溶。指沉淀相在母相晶粒内均匀分布,与母相常有一定位向关系。常见的是平行于基体低指数面呈片状魏氏组织形貌;②不均匀的脱溶。指在晶界、滑移带、非共格孪晶界等处优先形核,析出过渡沉淀相或稳定的沉淀相。
在过冷度较小的情况下,通常发生不均匀脱溶;过冷度较大时,则倾向于均匀沉淀。